● GHC系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺和苛刻工艺制程，处理粉尘能力极强，是苛刻工艺应用的首选，并且可靠性高，使用成本极低。
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、新型显示等行业。
● GMR系列干泵，可应用于清洁工艺以及一般严苛工艺；可靠性高，使用成本极低；
● 主要适用于半导体行业刻蚀与离子注入工艺腔；
● 低能耗，抗腐蚀，占地面积少。
● GLR系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、新型显示、LED、锂电和太阳能光伏等行业。
● GLR系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、新型显示、LED、锂电和太阳能光伏等行业。
● GHR系列干泵，面向高流量H2应用开发，适用于中等及严苛制程，MOCVD、硅外延、碳化硅外延和HJT等工艺，具有抽气能力强、可靠性高等特点；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、LED和光伏等行业。
● GS系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺和苛刻工艺制程，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于太阳能光伏等。
● GLR系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺，并且可靠性高，使用成本极低
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、面板显示、LED、锂电和太阳能光伏等行业
● Merak是一种双层多泵型一体机，采用模块化设计，可灵活集成多种类型真空泵、Chiller等设备，支持按需增减模块，为晶圆厂大幅精简空间，提升单位面积产出；
● 适用于半导体Etch、PVD等多种工艺，显著降低Hookup成本及Facility点位需求，大幅缩短装机时间，助力晶圆厂简化设计、快速部署、安全运营。
● Phecda是针对Diffusion、EPI、MOCVD等工艺的集成单泵型一体机，包含干式真空泵和尾气处理设备；
● 具有安全可靠、运行稳定、预测性维护、占地面积更小等优点。
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