半导体
应用挑战及应用领域
● GLR系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、面板显示、LED、锂电和太阳能光伏等行业。
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应用挑战及应用领域
| 工艺 | 冷凝 | 腐蚀 | 粉尘 | 可燃气体pumping | 推荐产品 |
| PECVD SiN | ● | ● | ● | GHC | |
| PECVD SiON | ● | ● | ● | ● | GHC |
| PECVD SiO2 | ● | ● | ● | GHC | |
| Metal Etch | ● | ● | GHC | ||
| Non-Metal Etch | ● | GHC |
● GHC系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺和苛刻工艺制程，处理粉尘能力极强，是苛刻工艺应用的优选，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、面板显示等行业。
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应用挑战及应用领域
| 分类 | 工艺 | 冷凝 | 腐蚀 | 粉尘 | 频繁pumping | 推荐产品 |
| light | PVD | ● | GLR系列 | |||
| LL/TC | ● | GLR系列 | ||||
| 蒸镀 | ● | GLR系列 | ||||
| Lami贴合 | ● | GLR系列 | ||||
| coater | PHOTO | ● | GLR-P系列 |
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