半导体
应用挑战及应用领域
| 工艺 | 冷凝 | 腐蚀 | 粉尘 | 热反应 | 可燃气体pumping | 推荐产品 |
| ALD | ● | ● | ● | ● | ● | GHC |
| PECVD | ● | ● | ● | ● | GHC | |
| LPCVD | ● | ● | ● | ● | GHC | |
| SACVD | ● | ● | ● | ● | GHC | |
| MOCVD | ● | ● | ● | GHC | ||
| MetalEtch | ● | ● | GHC |
● GHC系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺和苛刻工艺制程，处理粉尘能力极强，是苛刻工艺应用的优选，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、面板显示等行业。
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应用挑战及应用领域
| 工艺 | 冷凝 | 腐蚀 | 推荐产品 | 备注 |
| IMPsource | ● | GMR | ||
| Strip/Ashing | GMR | |||
| OxideEtch | ● | GMR | ||
| PolyEtch | ● | GMR | ||
| MetalEtch | ● | ● | GMR | 用于6寸与8寸FAB |
| HDP | ● | GMR |
● GMR系列干泵，可应用于清洁工艺以及一般严苛工艺；可靠性高，使用成本极低；
● 主要适用于半导体行业刻蚀与离子注入工艺腔；
● 低能耗，抗腐蚀，占地面积少。
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应用挑战及应用领域
| 工艺 | 冷凝 | 推荐产品 |
| loadlock | GLR | |
| Transfer | GLR | |
| PVD | GLR | |
| Coater | ● | GLR |
● GLR系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、面板显示、LED、锂电和太阳能光伏等行业。
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应用挑战及应用领域
| 工艺 | 高流量H2 | 推荐产品 |
| MOCVD | ● | GHC |
| Si EPI | ● | GHC |
| SiC EPI | ● | GHC |
| HJT | ● | GHC |
● GHR系列干泵，面向高流量H2应用开发，适用于中等及严苛制程，MOCVD、硅外延、碳化硅外延和HJT等工艺，具有抽气能力强、可靠性高等特点；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、LED和光伏等行业。
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应用挑战及应用领域
| 分类 | 工艺 | 冷凝 | 热解 | 粉尘 | 推荐产品 |
| 拉晶 | 拉晶 | ● | GS-S系列 | ||
| 电池片 | PECVD | ● | GS系列 | ||
| ALD | ● | ● | GS系列 | ||
| LPCVD | ● | GS系列 |
应用挑战及应用领域
| 分类 | 工艺 | 冷凝 | 热解 | 粉尘 | 推荐产品 |
| 组件 | 层压 | ● | GLR-P系列 |
● GLR系列干泵，可应用于清洁工艺、一般工艺，并且可靠性高，使用成本极低；
● 适合多样化市场，广泛应用于半导体、面板显示、LED、锂电和太阳能光伏等行业。
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